主营:纳米抛光液,高档硅溶胶,无机纳米材料,大粒径硅溶胶
数量(mm) | 价格(元/mm) |
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一、应用领域
1.抛光:用于制备CMP抛光液,用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、宝石、液晶玻璃、镜头、金属表面等产品的抛光。
2.催化剂载体、数码印刷等。
二、性能指标
指标名称
型号及标准
LS30
LS60
LS80
LS100
LS140
粒径(nm)
20-40
60-80
80-100
100-120
140-160
SiO2含量(重量)
30-40%
30-50%
Na2O含量(重量)
≤0.4%
分散介质
水
pH值
2-11可调
分散状态
单分散
胶粒形态
球型
保质期(月)
≥12
三、产品特点
1.粒径分布窄(±10nm),球形胶粒,结构致密。
2.纯度高,金属离子含量低。
3.可根据用户要求设定粒径大小、浓度、PH值、离子含量等指标。
四、用于抛光的使用方法
建议用去离子水将浓度稀释至10-20%,也可根据实际工艺要求改变配比。若要调节pH值,可用10% HCI,10%NaOH,10%KOH或10%的氨水在充分搅拌下慢慢滴入。
五、包装及储存
1.采用聚乙烯塑料桶包装,主要包装规格有25Kg、250Kg。
2.贮存时应避免曝晒,贮存温度为0-40℃。低于0℃则产生冻胶失效。
3.避免敞口长期与空气接触。
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